有技術也難追台積電!英特爾坦言最難跨越是「它」
〔財經頻道/綜合報導〕追趕台積電,英特爾究竟還差多少?從先進製程的技術競賽,到EUV曝光機的供應限制,再到動輒數百億美元的資本支出,英特爾面對的挑戰,早已不只是晶片能不能做得更小、更快,而是能否以足夠的產能、成本競爭力與量產可靠度,建立一套足以與台積電抗衡的製造體系,英特爾技術主管Pushkar

有技術也難追台積電!英特爾坦言最難跨越是規模。(彭博,本報合成圖)
〔財經頻道/綜合報導〕追趕台積電,英特爾究竟還差多少?從先進製程的技術競賽,到EUV曝光機的供應限制,再到動輒數百億美元的資本支出,英特爾面對的挑戰,早已不只是晶片能不能做得更小、更快,而是能否以足夠的產能、成本競爭力與量產可靠度,建立一套足以與台積電抗衡的製造體系,英特爾技術主管Pushkar Ranade直言,追趕台積電的關鍵在於「規模」。
外媒報導,全球每年交付的EUV曝光機不到100台,不只曝光機供不應求,幾乎所有先進製程設備都面臨供應短缺。即使技術到位,設備也無法隨時調度,從下訂到交貨可能需要18個月,擴建新廠更可能耗去數年。當AI算力需求持續攀升,晶片製造的擴張速度,卻受到整條供應鏈的制約。
這也解釋了英特爾與台積電之間真正的差距。台積電每年投入龐大資本支出,服務來自全球的晶片客戶,藉由大規模生產分攤設備與廠房成本;英特爾則長期以自家產品為主要客戶,如今才積極拓展外部代工業務。
兩者即使採用相近的先進設備,也未必能算出相同的經濟效益。對英特爾而言,追趕台積電不只要突破製程技術,更要擴大客戶基礎、提高產能利用率,並讓龐大的固定成本轉化為競爭優勢。
High-NA EUV曝光機正是這場競賽的縮影。Pushkar認為,背面供電架構有助於發揮High-NA的效益,減少多重曝光的需求;台積電則更重視設備導入的成本與量產效益。同一台造價高昂的設備,為何在兩家公司眼中有不同價值?答案不只在技術路線,也在各自的製程架構、成本結構與量產策略。
然而,技術領先並不自動等於代工成功。英特爾18A製程在初期缺乏成熟的製程設計套件(PDK)流程,反映出它必須補上的不只是製造能力,還有服務外部客戶所需的制度、工具與信任。從18A走向14A,英特爾能否讓設備重複利用、降低導入成本,並讓客戶相信它能準時、穩定地交付晶片,將直接影響代工業務能否真正擴大。
因此,英特爾追趕台積電的核心問題,並不是單純比較誰的製程節點更先進,也不是看誰買得起更昂貴的曝光機,而是誰能把技術、設備、資本、產能與客戶整合成可持續擴張的製造體系。在先進製程設備供不應求、建廠成本不斷攀升的時代,英特爾要追上的,是台積電多年累積的規模經濟與代工生態系。這場競賽最終比拚的,不只是誰能先做出下一代晶片,而是誰能以更低的成本、更高的良率與更可靠的交付能力,持續把晶片做出來。
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